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euv光刻技术的推进相当困难，光刻机龙头asml也是举步维艰，一点点改进。

快科技9月7日消息，asml宣布，将在今年底发货第一台支持高na(数值孔径)的euv极紫外光刻机，型号“twinscan exe:5000”。

na数值孔径是光刻机光学系统的重要指标，直接决定了光刻的实际分辨率，以及最高能达到的工艺节点。

asml现有最先进的euv光刻机是nex:3400c、nex:3400d，na只有0.33，对应的分辨率为13nm，可以生产金属间距在38-33nm之间的芯片。